标准介绍
GB/T 24580-2009重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法最新版内容查询，英语名称Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry，发布日期：2009-10-30，实施日期：2010-06-01，GB/T24580-2009重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法国家标准最新版免费下载
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