标准介绍
GB/T 14847-2010重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法最新版内容查询，英语名称Test mothod for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance，发布日期：2011-01-10，实施日期：2011-10-01，GB/T14847-2010重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法国家标准最新版免费下载
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