国家标准

GB/T34649-2017磁控溅射用钌靶

GB/T34649-2017磁控溅射用钌靶

分类：国家标准 大小：776KB 热度：7 点评：0

发布：2025-08-04 23:25:57

支持：

关键词：

冶金

标准介绍

若标准有缺失、过时等问题，欢迎您反馈。

GB/T 34649-2017磁控溅射用钌靶最新版内容查询，英语名称Magnetron sputtering ruthenium target，发布日期：2017-09-29，实施日期：2018-04-01，GB/T34649-2017磁控溅射用钌靶国家标准最新版免费下载

上一篇：GB/T23592-2017摩托车排气净化催化剂

下一篇：GB/T4698.23-2017海绵钛、钛及钛合金化学分析方法第23部分：钯量的测定氯化亚锡-碘化钾分光光度法和电感耦合等离子体原子发射光谱法

相关标准

最新评论

我要评论